Programa: Iniciación Experimental al Mundo de las Nanociencias
Tema: Desarrollo de nanoestructuras metálicas ordenadas
Vacantes: 1
Descripción del Servicio Social:
Caracterización de nanoestructuras metálicas ordenadas a partir de arreglos de partículas coloidales utilizados como máscaras. El objetivo principal de este trabajo es desarrollar máscaras para litografía para fabricar a partir de ellas arreglos ordenados de nanoestructuras metálicas con dimensiones características inferiores a los 100 nm. Primeramente se preparan monocapas de partículas coloidales de sílice, esféricas y monodispersas, sobre sustrato de SiO2. Esta monocapa sirve como máscara para la subsecuente fabricación de nanoestructuras metálicas ordenadas por implantación de iones de Ag o mediante evaporación por cañón de electrones de una película delgada de Ag. De hecho, los espacios o huecos entre las partículas de sílice constituyen las aberturas de la máscara a través de las cuales se introducen selectiva y ordenadamente los átomos evaporados o implantados. Luego, al eliminar las partículas coloidales por medio de agitación ultrasónica, quedan únicamente depositadas sobre el sustrato las estructuras metálicas que nos interesan. La forma, el tamaño y el orden de dichas nanoestructuras dependen obviamente del arreglo inicial de las partículas de sílice en la monocapa y de las dimensiones características de los intersticios abiertos de la máscara.
Actividades que realizarán los alumnos:
Caracterización de nanoestructuras metálicas ordenadas a partir de arreglos de partículas coloidales utilizados como máscaras. Entre las actividades a realizar se encuentran: 1.- Preparación de muestras: a) síntesis de partículas coloidales por el método sol-gel sobre un sustrato a partir de diversas soluciones. b) depósito de películas delgadas por medio de evaporación con haz de electrones. 2.- Modificación de los materiales de interés por medio de la técnica de implantación de iones. 3.- Caracterización de las muestras por varias técnicas analíticas: a) Retrodispersión de Rutherford (RBS). b) Microscopía electrónica de barrido y de fuerza atómica.
Requisitos para ingresar al Servicio Social:
70% de créditos, promedio mayor a 8, capacidad de trabajar en equipo.
Responsable: